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手机中框鱼鳞纹导电位激光镭雕
来源：镭凌激光2021-04-03 10:17:40
产品工艺
镭雕区域：
1、阴影部分镭雕区域,共54处,LCD面11处,电池面43处;
2、产品上所有镭雕位置镭雕前高出图纸0.02mm,要求镭雕后满足弹力要求;
3、镭雕保证任意两点之间阻值不超过1Ω,且表面贴合导电布等物料时不会发生松动、脱落现象;
4、镭雕区T1~T19为天线镭雕区,G1~G36为镭雕接地区域，镭雕工艺必须满足Moto可靠性测试标准;
5、镭雕位置与图示位置偏差不得超过0.3mm;
6、镭雕区域注塑后需金属原色，不允许出现发黄、发暗、白点现象；
镭雕具体要求如下:
1、镭雕功率要求:雕功率控制在25~30W(额定功率的90%);
2、镭雕方式要求:线状镭雕,镭雕线距小于等于0.05,镭雕线路需要交叉各一次;
3、镭雕速度要求:镭雕速度要求小于2000mm/s;
4、镭雕频率要求:小于或等于30KHZ;
5、阳极/电泳层必须镭雕干净,不得有脏污残留;镭雕后工件表面要求:工件表面需要清理干净,严禁在制程或运输阶段用手指触碰,镭雕后金属表面呈现亮银色;
6、镭雕后产品任意两点阻值必须空载1欧姆以内的测量数据报告需要附在出货报告中;
检测手段:
1、制作压力可控(0.7N)的导通检具检验电阻,使用台式电阻仪(精确)代替手持万用表;
2、高度规(0.001mm千分表)检查镭雕深度;
3、测量探头使用平头,直径不大于2mm,特殊情况不小于1mm;
4、测试时探头的的压力<1N;
5、测量区域为镭雕面,镭雕刻线不用测量;有导电泡棉及导电布区域,在此基础上测量;探头位置应与铜片上的弹片触点位置、镭雕触点位置重叠,谨防偏位;
6、测试过程要避免划伤外观面;
7、根据测试点位图制作金板（1ohm,2ohm,3ohm）,测试之前校准测试夹具;
8、电阻检测仪器精度0.01ohm;
9、试产及量产初期阶段需要100%测量,大批量量产时也需要做全检检测,并将测量结果附到出货报告中;
注:根据调试状态有可能会移动,增加或者删减,需要根据最终状态来做调整。
该项目是小米旗舰手机件加工，经过镭凌激光工艺工程师的测试，产品要求可完全满足客户需求，适合量产。
样品镭雕效果
